EUVの開発の歴史　1997年のEUV LLCから23年、2020年に量産へ

EUV露光は、とても波長の短い光で、ウエハーに細い回路の模様を写す技術です。いまは最先端のロジックやDRAMの量産で使われていますが、実用までの道は長いものでした。インテルと米国の研究所の発表、ASMLの年表から、その経緯をたどります。

1997年、米国の官民の共同開発

インテルの1997年9月11日の発表によると、インテル、AMD、モトローラが率いる企業連合「EUV LLC」が、ローレンス・リバモア、サンディア、ローレンス・バークレーの3つの国立研究所と組んでEUV露光を開発することになりました。3研究所は「仮想国立研究所」として1つの組織のように動きます。企業連合は3年で2億5000万ドルの民間資金を出すとしました。

発表の時点で、マイクロプロセッサは0.35ミクロンの技術でつくられ、0.25ミクロンの生産が始まったばかりでした。EUV LLCは、0.1ミクロンより細い線を描くことを目標にしています。開発した技術は、次の10年の初めに生産の工場に移す計画でした。装置メーカーとしてASML、ニコン、シリコンバレー・グループ、ウルトラテック・ステッパーズが加わっています。

2001年の試作機

サンディア国立研究所の2001年4月11日の発表によると、EUVを使う試作機「エンジニアリング・テストスタンド」が、カリフォルニア州リバモアのサンディアの拠点で組み上がりました。EUV LLCの責任者は、試作機の完成でEUV露光が機能することを証明したと話しています。

このとき企業連合には、マイクロン・テクノロジー、インフィニオン・テクノロジーズ、IBMも加わり、6社になっていました。研究の資金は1997年から2002年初めまでの契約で、すべて民間が出しました。目標は、少なくとも0.03ミクロンの線を描くことでした。

装置メーカーの長い仕上げ

EUVの開発の主な節目

年	出来事
1997年	EUV LLCと3研究所の共同開発を発表。民間資金2億5000万ドル
2001年	試作機エンジニアリング・テストスタンドを公開
2010年	ASMLがEUVの試作機NXE:3100をアジアの半導体メーカーの研究施設に出荷
2013年	ASMLが光源の米サイマーを買収。NXE:3300を出荷
2016年	顧客が量産向けのNXE:3400をまとめて発注し始める
2020年	EUVが量産に入り、ASMLは100台目を出荷
2023年	開口数0.55の高NAのEUVの初号機を出荷

出典はインテルとサンディア国立研究所の発表、ASMLの年表。

1997年の計画では、2000年代の初めに工場に入れるはずでした。ASMLの年表では、EUVが量産に入ったのは2020年です。発表から23年かかった計算です（計算）。この間にASMLは、光源をつくるサイマーを2013年に買収しています。

ASMLの2026年7〜9月期の売上高は116億6200万ユーロでした。同社は2026年通年の売上高を440億〜450億ユーロと見込んでいます。