日本の露光装置の歴史（ニコン・キヤノン）　1970年の国産初号機から半世紀、キヤノンは2026年に221台を見込む

露光装置は、回路の模様をウエハーに光で写す装置で、半導体の製造装置の中で最も高価な部類に入ります。日本の2社は、カメラや顕微鏡で育てたレンズの技術から露光装置に入りました。今は最先端のEUV露光装置をオランダのASMLだけがつくり、日本の2社は1世代前までの光源の装置とサービス、新しい方式の装置で事業を続けています。

年表で見る2社の歩み

キヤノンとニコンの露光装置の主な出来事（各社の発表から）

年	会社	出来事
1960年代半ば	キヤノン	フォトマスクをつくるためのレンズを開発
1970年	キヤノン	国産初の半導体露光装置「PPC-1」を発売
1975年	キヤノン	「FPA-141F」で世界で初めて1マイクロメートル以下の露光を実現
1978年	ニコン	超LSI技術研究組合の依頼で開発した試作機「SR-1」が完成
1980年	ニコン	国産初のステッパー「NSR-1010G」（解像度1マイクロメートル）を発表・出荷
1987年	ニコン	露光装置の累計の販売が1000台に
1999年	ニコン	ArFのドライのスキャナー「NSR-S302A」
2005年	ニコン	量産向けのArF液浸スキャナー（開口数1.07）、累計の販売が8000台に
2010年	キヤノン	「FPA-141F」が国立科学博物館の重要科学技術史資料（未来技術遺産）に登録
2017年	キヤノン	ナノインプリントの装置を東芝メモリ（当時）の四日市工場に納める
2023年	キヤノン	ナノインプリントの装置「FPA-1200NZ2C」を発売
2024年	キヤノン	同装置を米テキサス州の半導体の研究組織TIE向けに出荷

PPC-1が出た当時は、露光装置ではなく「半導体焼付装置」と呼んでいたとキヤノンは説明しています。ニコンのステッパーは、回路の模様を縮めて、ウエハーの上に場所を変えながら繰り返し写す方式です。この方式は、その後の露光装置の基本の形になりました。

今の2社の立ち位置

キヤノンは、水銀ランプのi線（波長365ナノメートル）と、KrFのレーザー（248ナノメートル）の装置を主力にしています。2026年7〜9月期の販売はKrFが14台、i線が28台の計42台でした。2026年の通期は221台の見通しで、前回の227台から少し下げました。i線の装置は、パワー半導体やセンサー、先端のパッケージの工程でも使われます。

ニコンは、ArFのレーザー（193ナノメートル）を使うドライと液浸の装置を持ちます。2026年4〜9月の半導体露光装置の販売は新品6台、中古2台でした。露光装置を含む精機事業の売上収益は906億円、営業利益は72億円で、ArFドライの装置とサービスの売上が増えました。

2社の半導体露光装置の販売台数の見通し

会社	期間	台数
キヤノン	2026年（1〜12月）	221台（KrF 66、i線 155）
ニコン	2027年3月期	新品23台、中古5台
ニコン（実績）	2026年3月期	新品22台、中古5台

ニコンは、半導体露光装置の市場の規模を2025年に570台、2026年に580台と見ています。

今後の注目点

• ニコンは精機事業の2027年3月期の売上収益を1900億円、営業利益を130億円と見込んでいます。
• キヤノンは2026年のFPD（画面）用の露光装置の販売を20台と見込んでいます。