洗浄とは　工程の合間に汚れを落とす　SCREENは装置売上の約9割が洗浄

半導体の回路の線の幅は、いまや数ナノメートルの世界です。目に見えないほど小さな粒が1つ乗るだけで、その場所の回路が切れたりつながったりして、チップが不良になります。このため、ウエハーは工程と工程の合間に何度も洗われます。

何を落とすのか

洗浄で取り除く主な汚れ

汚れ	主な原因	落とし方の例
微粒子（パーティクル）	装置の部品、空気中のちり、削りかす	アンモニアと過酸化水素の液、水の噴流、ブラシ
金属	装置の部品、薬液	塩酸と過酸化水素の液
有機物	レジストの残り、人の皮脂	硫酸と過酸化水素の液、オゾン水
自然酸化膜	空気中の酸素や水分	薄めたフッ酸

薬液で汚れを落とした後は、超純水ですすぎ、乾かします。乾かす途中で水の跡が残ると、それ自体が汚れになります。回路の細い柱や壁が、水の表面張力で倒れることもあるため、乾かし方にも工夫が要ります。

1枚ずつか、まとめてか

洗浄装置には、ウエハーを1枚ずつ回しながら薬液をかける枚葉式と、何十枚もまとめて薬液の槽に浸すバッチ式があります。枚葉式は前のウエハーの汚れが次のウエハーに移りにくく、1枚ごとに条件を変えられます。バッチ式は一度に多くを処理でき、薬液の量あたりの処理枚数で有利です。

洗浄装置を主力とするSCREENホールディングスは、半導体製造装置事業の製品別の売上比率を開示しています。2026年4〜9月期は、枚葉式洗浄が約75%、バッチ式洗浄が約15%、塗布現像装置や熱処理装置などが約10%でした。同期間の事業の売上高は2513億円です。

SCREENの半導体製造装置の製品別売上比率（約、5%刻み）

製品	2024年3月期	2025年3月期	2026年3月期	2026年4〜9月期
枚葉式洗浄	70%	80%	75%	75%
バッチ式洗浄	20%	15%	20%	15%
塗布現像・熱処理・その他	10%	5%	5%	10%

SCREENは決算資料で、先端ロジックとメモリーの製造で洗浄の重要性が高まり、前工程装置の市場全体を上回る売上の伸びの機会があるとしています。東京エレクトロンは、2026年3月期の新規装置売上1兆7754億円のうち9%が洗浄装置でした。金額では約1598億円です（計算）。芝浦メカトロニクスは、枚葉式のシリコンウエハー洗浄装置やフォトマスクの洗浄装置を手がけます。

関連する用語

• RCA洗浄：アンモニア系と塩酸系の薬液を組み合わせる、洗浄の基本の手順です。米RCA社が考案しました。
• 超純水：不純物をほぼ取り除いた水で、すすぎに使います。
• 欠陥検査：洗浄の後に粒や傷が残っていないかを調べる工程です。

SCREENは10月30日、京都府長岡京市に洗浄装置の生産工程の一部を担う新拠点を開くと発表しました。投資額は約250億円で、2028年1月に操業を始める予定です。