EUVマスクブランクス、HOYAとAGCの2強 HOYAの半導体向けは7〜9月に20%増収
HOYAの半導体向けのマスクブランクスなどを含むLSI製品の売上は、2026年7〜9月に前年同期比20%増えました。EUV向けのブランクスはHOYAとAGCが主な供給元で、両社とも次の世代の露光装置に向けた品の開発を進めています。
情報・通信事業とライフケア事業の2本柱。情報・通信事業では、半導体の回路の原版(フォトマスク)の材料になるマスクブランクスを作り、EUV向けで高いシェアを持つ。ライフケアではメガネレンズや内視鏡を手がける。国際会計基準(IFRS)で開示する。
| コード | 7741 |
|---|---|
| 上場 | 東証プライム |
| 本社 | 東京都新宿区 |
| 分野 | 材料・ウエハー |
| 決算期末 | 3月 |
| 主な製品 | EUV向けなどのマスクブランクス、HDD用ガラス基板、メガネレンズ、コンタクトレンズ、内視鏡 |
HOYAの半導体向けのマスクブランクスなどを含むLSI製品の売上は、2026年7〜9月に前年同期比20%増えました。EUV向けのブランクスはHOYAとAGCが主な供給元で、両社とも次の世代の露光装置に向けた品の開発を進めています。
テクセンドフォトマスクの2026年7〜9月の売上収益は379億4400万円で、前年同期から19.7%増えました。同社によると、SEMIが集計した2025年の外販フォトマスク市場で同社のシェアは40.5%で、10年続けて首位でした。
EUVは波長13.5ナノメートルの極端紫外線で、レンズを通らないため、露光装置は100層を超える膜を重ねた鏡で光を運びます。ASMLは2026年1〜6月に、EUV装置を32台販売しました(計算)。
High-NA EUVは、開口数(NA)を従来の0.33から0.55に上げたEUV露光装置で、解像度は8ナノメートルです。ASMLは2026年1〜6月に、High-NAの装置を3台、計11億8,890万ユーロ販売しました。
フォトマスクは、露光装置でウエハーに写す回路の模様を描いた原版です。大日本印刷(DNP)は2026年4〜9月、フォトマスクを含むエレクトロニクス部門の売上高が前年同期比16.1%増の1,437億円でした。
HOYAの2026年7〜9月期の営業利益は908億円で、前年同期から33.2%増えました。情報・通信事業の売上収益は1068億円と23.4%伸び、セグメント利益率は55.1%でした。
HOYAは、メガネレンズなどのライフケアと、半導体用マスクブランクスやHDD用ガラス基板の情報・通信を2本柱とする会社です。2026年4〜9月期は売上収益が13.4%増の5159億円で、情報・通信事業の売上収益は23.1%増えました。