仕組み2026年11月15日

マスク検査とは　1枚の原版の傷が全チップに写る　EUV用はレーザーテックが装置

マスク検査は、回路の原版であるフォトマスクの欠陥を探す工程です。レーザーテックは、2027年6月期の受注を4000億〜5000億円と見込み、EUVとDUVのマスク関連装置の需要が増えているとしています。

ポイント

露光装置は、フォトマスクに描いた回路の模様を縮めて、ウエハーの上に場所を変えて繰り返し写します。マスクに1か所でも欠けや異物があると、同じ所に同じ不良が並びます。1枚のマスクで多くのウエハーを露光するため、マスクの欠陥は損失が大きくなります。マスク検査は、これを使う前に見つける工程です。

3つの段階で調べる

マスク検査の段階とレーザーテックの製品の例
段階	調べるもの	製品の例（EUV用）
ブランクス	回路を描く前の素材の板の欠陥	ABICS E120、ABICS E320
パターン付きマスク	描いた回路の欠け、余分、異物	ACTIS A150、ACTIS A300シリーズ、ACTIS A200HiTシリーズ
ペリクル	マスクを覆う保護膜についた異物	PELMISシリーズ

ほかに、マスクの裏面を調べて洗う装置や、マスクの端を調べる装置もあります。DUV用のマスクには、光の位相のずれや透過率を測る装置を使います。

従来のDUVのマスクは、光を通すガラスの板に遮光の膜で模様を描きます。EUVの波長13.5ナノメートルの光はガラスを通らないため、EUVのマスクは光を反射する多層の鏡の上に、光を吸う膜で模様を描きます。

多層の鏡の中に埋もれた小さな欠陥は、表面からは見えにくく、EUVの光を当てたときにだけ問題になることがあります。そこで、露光と同じEUVの光を当てて調べる方法を「アクティニック」検査と呼びます。レーザーテックの「ACTIS」は、この方式のパターン付きEUVマスクの検査装置です。

レーザーテックの2026年7〜9月期の売上高は403億円で、前年同期比25.5%減りました。半導体関連装置の売上高は238億円で42.9%減った一方、保守などのサービスは160億円で31.2%増えました。会社は売上を「概ね当初の想定通り」としています。

レーザーテックの2026年7〜9月期（億円）
項目	2025年7〜9月	2026年7〜9月	増減率
売上高	541.7	403.7	△25.5%
うち半導体関連装置	417.5	238.5	△42.9%
うちサービス	122.0	160.1	+31.2%
営業利益	267.3	157.7	△41.0%

マスク検査では米KLAも装置をつくります。マスクに回路を描く電子ビームの描画装置では、日本電子などが知られます。