フォトレジストとは　光で溶け方が変わる薬剤、波長ごとに作り分ける

フォトレジストは、光や電子線に反応して性質が変わる薬剤です。単にレジストとも呼びます。ウエハーに薄く塗り、マスクを通して光を当て、現像すると、回路の模様の形にレジストが残る仕組みです。この残ったレジストが、下の膜を削るときの盾になります。

ポジ型とネガ型

2013年の日本国際賞の業績の解説によると、レジストには、光の当たった所が現像液に溶けるポジ型と、光の当たった所が残るネガ型があります。回転させたウエハーに塗って膜にし、露光、現像のあと、レジストに覆われていない所を薬液やプラズマで削り、最後にレジストを取り除きます。

回路を細かくするには、光の波長を短くします。しかし、波長を短くすると、従来のレジストは光への感度が大きく落ちる問題がありました。これを解いたのが、1980年代の初めに米IBMの研究者が開発した化学増幅型のレジストです。今の先端品の多くは、この仕組みを使います。

波長ごとに別の製品

東京応化工業の沿革を見ると、1968年に半導体用のネガ型レジスト、1972年に国産初の半導体用のポジ型レジストを作りました。その後、1987年にi線用、1995年にKrFエキシマレーザー用、2001年にArFエキシマレーザー用のポジ型レジストを出しています。今はEUV用も手がけます。

東京応化工業の製品別の世界シェア（2025年の出荷量）

レジストの種類	光の波長	シェア	順位
g線・i線用	436nm・365nm	25.3%	1位
KrF用	248nm	33.3%	1位
ArF用	193nm	14.4%	3位
EUV用	13.5nm	29.3%	1位

東京応化工業が富士キメラ総研の調査をもとに計算した数字。波長はASMLの説明から。

需要と再編

東京応化工業の2026年1〜9月の売上高は2,175億円で、前年同期比25.9%増えました。レジストを含むエレクトロニクス機能材料は1,157億円で27.3%増です。会社は、データセンター向けのAIサーバーの需要の拡大を理由に挙げています。通期の売上高の見通しは3,000億円です。

業界の再編も動いています。三井化学は2026年11月9日、政府系のJICキャピタルが運営するファンドなどからJSRを取得すると発表しました。取得額は有利子負債などを含めて1兆8,400億円で、完了は2027年度の下半期をめざします。三井化学は、JSRの先端のフォトレジストと、自社のペリクルなどを組み合わせるとしています。

関連する用語

• 化学増幅型レジスト：光で生じた酸が触媒になり、連鎖的に溶け方を変えるレジスト。
• メタルオキサイドレジスト：金属の酸化物を使うEUV用のレジスト。
• 現像：露光の後に薬液でレジストの一部を溶かし、模様を出す工程。