メタルオキサイドレジストとは　スズ酸化物のEUV用レジスト、JSR傘下のインプリアが開発

メタルオキサイドレジスト（MOR）は、金属の酸化物を使うEUV露光用のレジストです。今のEUVで多く使われる化学増幅型レジストは、炭素を主とする高分子の樹脂でできています。MORは、スズの酸化物を核にした、高分子よりずっと小さなかたまりでできています。

化学増幅型と何が違うか

インプリアの説明では、違いは主に3つあります。1つ目は、EUVの光をより多く吸うことです。EUVの光は粒（光子）の数が少なく、場所による当たり方のむらが模様の乱れにつながります。光を多く吸えば、このむらを抑えられます。

2つ目は、化学増幅型レジストのように酸を広げて反応させる仕組みを使わないことです。酸がにじむように広がると模様の輪郭がぼやけますが、MORにはこれがありません。3つ目は、金属の酸化物のため、下の膜を削るときに盾として強いことです。工程を短くできるとしています。成分の種類が少なく、品質をそろえやすい点も挙げています。

化学増幅型レジストとメタルオキサイドレジスト

項目	化学増幅型	メタルオキサイド（MOR）
主な材料	高分子の樹脂、光で酸を出す成分	スズ酸化物を核にした金属のかたまり
反応の仕組み	酸が触媒となって連鎖的に反応	酸の拡散を使わない
EUVの吸収	―	より多く吸う
実用の歴史	KrF（248nm）の世代から主力	EUVで導入を検討

インプリアとJSR

インプリアは2007年に、米オレゴン州立大学の化学科から独立して生まれた会社です。EUV用のレジストは、オレゴン州コーバリスの工場で作っています。JSRは2021年9月にインプリアの取得で合意し、同年11月に取得を終えました。

MORは塗る方法のほかに、ガスから膜を作る「ドライレジスト」という方法もあります。米ラムリサーチは、ドライレジストの装置と工程の技術「Aether」を持ちます。JSRとインプリアは、特許を巡る訴訟を続けていたラムリサーチと、2025年9月に特許を互いに使える契約と協業の契約を結び、訴訟を取り下げました。2026年5月には、材料の精製や、気体から膜を作る原料に強い米インテグリスとも、MORの特許を互いに使える契約を結び、特許の無効を争う手続きを終えました。

関連する用語

• 化学増幅型レジスト：光で生じた酸が触媒になるレジスト。今の主力です。
• High-NA EUV：開口数0.55のEUV露光装置。解像度は8ナノメートル。
• ドライレジスト：液を塗らず、ガスから膜を作るレジスト。

JSRは、三井化学が2026年11月9日に取得を発表した会社です。取得の完了は2027年度の下半期をめざしています。